28nm以上制程的成熟芯片有望實(shí)現(xiàn)全流程國產(chǎn)化了!
28nm雖然不是特別先進(jìn)技術(shù)，但意義依然重大，因?yàn)檫@是芯片中低端和中高端的分界線，目前除了最先進(jìn)的CPU、GPU、AI芯片外，其余的工業(yè)級芯片大多都是28nm以上技術(shù)。
9月9日，工業(yè)和信息化部印發(fā)《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》的通知：
工作原理：深紫外光刻技術(shù)的革新
氟化氪光刻機(jī)與氟化氬光刻機(jī)都屬于深紫外(DUV)光刻機(jī)的范疇，它們的工作原理基于利用特定波長的光源通過光學(xué)系統(tǒng)和投影物鏡，將集成電路的微觀圖案精確地投影到硅片上的光刻膠層。這兩種光刻機(jī)的主要區(qū)別在于它們使用的光源波長：
氟化氪光刻機(jī)：采用248nm波長的光源，能夠?qū)崿F(xiàn)110納米以下的分辨率，適用于多種集成電路制造工藝。
氟化氬光刻機(jī)：使用193nm波長的光源，提供更高的分辨率，能夠?qū)崿F(xiàn)65納米以下的制程技術(shù)，為更精細(xì)的電路制造提供了可能。
技術(shù)意義：產(chǎn)業(yè)升級與自主可控
這兩種光刻機(jī)的出現(xiàn)，不僅是技術(shù)上的一次飛躍，更是產(chǎn)業(yè)自主化的重要里程碑：
技術(shù)突破：氟化氪與氟化氬光刻機(jī)的成功研發(fā)，標(biāo)志著我國在高端光刻技術(shù)領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，為半導(dǎo)體制造提供了強(qiáng)有力的技術(shù)支持。
產(chǎn)業(yè)升級：高精度光刻機(jī)的引入，使得國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能夠制造更復(fù)雜、更高性能的集成電路，推動了整個產(chǎn)業(yè)鏈的技術(shù)升級和產(chǎn)品創(chuàng)新。
經(jīng)濟(jì)效益與國家安全：通過減少對外部技術(shù)的依賴，這些光刻機(jī)有助于提升國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自給自足能力，增強(qiáng)經(jīng)濟(jì)和產(chǎn)業(yè)的安全性。
冷水機(jī)控溫：確保光刻機(jī)穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵
在光刻機(jī)的運(yùn)行過程中，精確的溫度控制對于保證光刻質(zhì)量和產(chǎn)量至關(guān)重要。冷水機(jī)作為冷卻系統(tǒng)的核心組件，其作用不容小覷：
控溫需求：光刻機(jī)在曝光過程中對溫度極為敏感，因此需要冷水機(jī)提供高精度的溫度控制，以維持光刻機(jī)的穩(wěn)定性和重復(fù)性。
冷水機(jī)的作用：通過循環(huán)冷卻水，冷水機(jī)能夠有效地帶走光刻機(jī)在運(yùn)行中產(chǎn)生的熱量，確保設(shè)備在適宜的溫度范圍內(nèi)工作，從而保障光刻過程的精確性和可靠性。
特域冷水機(jī)可為光刻機(jī)提供專業(yè)冷卻支持
特域冷水機(jī)超快激光冷水機(jī)CWUP系列，可以光刻機(jī)提供精密穩(wěn)定持續(xù)控溫，其中CWUP-20ANP溫控精度達(dá)到±0.08℃，為精密加工領(lǐng)域提供高效的冷卻解決方案。
在半導(dǎo)體制造的精密世界里，光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)微細(xì)電路圖案轉(zhuǎn)移的核心設(shè)備。隨著技術(shù)的進(jìn)步，氟化氪光刻機(jī)與氟化氬光刻機(jī)以其卓越的性能，成為了推動行業(yè)發(fā)展的重要力量。
